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          超純水過濾

           

          過程簡述

           

          在半導體產品製造過程中 ,由於生產設備的精密性和生產工藝的複雜性 ,對其配套設施提出了很高的要求 ,尤其對作爲半導體行業血脈 的超純水系統更是高之又高 。半導體行業超純水製造工藝可以概述爲4個部分 ,分別爲預處理部分、RO部分、電去離子部分和拋光混牀部分 ;在有些半導體廠中 , 也有用“陰牀+陽牀”代替電去離子裝置的 ,主要根據原水水質和產水水質對弱電解質的要求而定 。
           

          產品優勢

           

          避免傳統離子再生耗費的大量酸鹼 ,對環境更友好 ;

          克服傳統離子設備再生週期相對較長 ;

          超濾反洗排水、一級RO濃水排水和CEDI濃水排水及其回收利用措施 ,利於節能減排 ;

          節約水資源及半導體制造單位的運行成本 。

           

          產品應用

           

          預處理部分

          多介質過濾器+活性炭過濾器
          粗過濾器+超濾裝置

           

          反滲透部分

          反滲透膜

           

          電去離子部分

          EDI模塊和 CEDI模塊

           

          拋光混牀
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