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                                          0523-84588098

                                          過程簡述

                                           

                                          半導體工業用的超純氣體有氫、氧、氮、氬、氦、氨、二氧化銨、四氧化碳各類氣體氫化物及二元或三元以上的混合氣等 ,它們大部分 是從空氣、天然氣、石油化工和合成氨廠的殘餘氣體中提取後進一步精製得到 ,根據原料氣來源情況、雜質組份含量、純度要求來選擇相應的製備方法 。集成電路發 展到兆位級後 ,對超淨提出了更嚴格要求 ,在超純氣體或電子氣體供氣系統中 ,爲了脫除由於振動或氣流衝擊所造成的脫落粒子 ,在使用氣前須安裝過濾器 。
                                            

                                          問題描述

                                           

                                          半 導體元件因其高集成化 ,製作芯片上的電子電路的最小加工線寬度變得更微細 ,16k位電路線寬、線路間距爲4~7微米 ,而256k位電路爲0.8~1.5微 米 ;這種微細的加工允許的微粒子的最小粒徑是加工尺寸的1/5~1/10 ,故對於64k位隨機存取記憶 ,存在0.3微米的粒子會成爲問題 ,對於 256k~1M位隨機存取記憶 ,某一段存在0.1微米的粒子就會成爲問題 。在半導體工業生產中, 幾乎各道工序都用到超純氣體, 元件的質量與超純氣體的純淨度密切相關 。
                                            

                                          產品應用

                                           

                                          深度過濾:
                                           玻璃纖維濾紙
                                           多孔陶瓷
                                           燒結金屬
                                           石棉
                                           毛氈


                                           膜過濾:
                                           金屬孔板(絲網)
                                           Teflon膜
                                           陶瓷膜

                                          此文關鍵詞: