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                  銷售熱線

                  0523-84588098

                  製造廢水過濾

                  過程簡述

                   

                  半導體集成電路是指在半導體基板上 ,利用氧 化、蝕刻、擴散等方法 ,將衆多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上 ,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等) , 進而達成預先設定好的電路功能 。半導體的生產工藝要求高 ,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種複雜工藝 ,生產半導體的過程會產生大量的廢水 , 半導體廢水污染物種類多 ,成分複雜 ,通常包括多種重金屬廢水 ,有機廢水以及硅和氟廢水 ;同時半導體PCW系統的製程冷卻水須過濾處理以回用(見水處理應 用) 。

                   

                  清洗工藝及廢水來源

                   

                  工藝

                  清潔源

                  容器

                  清潔效果

                  剝離光刻膠

                  氧等離子體

                  平板反應器

                  刻蝕膠

                  去聚合物

                  硫酸:水=6:1

                  溶液槽

                  除去有機物

                  去自然氧化層

                  氟化氫:水<1:50

                  溶液槽

                  產生無氧表面

                  旋轉甩幹

                  氮氣

                  甩幹機

                  無任殘留物

                  RCA1#(鹼性)

                  氫氧化銨:過氧化氫:水=1:1:1.5

                  溶液槽

                  除去表面顆粒

                  RCA2#(鹼性)

                  氯化氫:過氧化氫:水=1:1:5

                  溶液槽

                  除去重金屬粒子

                  DI清洗

                  去離子水

                  溶液槽

                  除去清洗溶劑

                   

                  問題描述

                   

                  分產生廢水量大

                  廢水成複雜 ,含有各種過渡性質的金屬如硅、鍺等 ,同時含有較高含量的氟 ;

                  廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD ;

                   

                  產品應用

                   

                  陶瓷膜過濾系統

                  佔地面積小 ,集中管理 ,智能控制 ;

                  產水質量高 ,同時去除廢水中的磷酸鹽和COD ;

                  耐化學酸鹼性佳 ,壽命長 ,維護簡便 ;

                  簡化傳統工藝 ,無需添加藥劑 ;

                   

                  此文關鍵詞: