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              <kbd id='bqu2em9w'></kbd><address id='bqu2em9w'><style id='bqu2em9w'></style></address><button id='bqu2em9w'></button>

                      <kbd id='54yubtke'></kbd><address id='54yubtke'><style id='54yubtke'></style></address><button id='54yubtke'></button>

                              <kbd id='qp54ya2h'></kbd><address id='qp54ya2h'><style id='qp54ya2h'></style></address><button id='qp54ya2h'></button>

                                      <kbd id='fx0dtloh'></kbd><address id='fx0dtloh'><style id='fx0dtloh'></style></address><button id='fx0dtloh'></button>

                                              <kbd id='982j9oh8'></kbd><address id='982j9oh8'><style id='982j9oh8'></style></address><button id='982j9oh8'></button>

                                                      <kbd id='ba5j9c32'></kbd><address id='ba5j9c32'><style id='ba5j9c32'></style></address><button id='ba5j9c32'></button>

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                                                          0523-84588098

                                                          製造廢水過濾

                                                          過程簡述

                                                           

                                                          半導體集成電路是指在半導體基板上 ,利用氧 化、蝕刻、擴散等方法 ,將衆多電子電路組成各式二極管、晶體管等電子組件作在一微小面積上 ,以完成某一特定邏輯功能(例如:AND、OR、NAND等) , 進而達成預先設定好的電路功能 。半導體的生產工藝要求高 ,涵蓋光刻、精密切割和研磨等各種複雜工藝 ,生產半導體的過程會產生大量的廢水 , 半導體廢水污染物種類多 ,成分複雜 ,通常包括多種重金屬廢水 ,有機廢水以及硅和氟廢水 ;同時半導體PCW系統的製程冷卻水須過濾處理以回用(見水處理應 用) 。

                                                           

                                                          清洗工藝及廢水來源

                                                           

                                                          工藝

                                                          清潔源

                                                          容器

                                                          清潔效果

                                                          剝離光刻膠

                                                          氧等離子體

                                                          平板反應器

                                                          刻蝕膠

                                                          去聚合物

                                                          硫酸:水=6:1

                                                          溶液槽

                                                          除去有機物

                                                          去自然氧化層

                                                          氟化氫:水<1:50

                                                          溶液槽

                                                          產生無氧表面

                                                          旋轉甩幹

                                                          氮氣

                                                          甩幹機

                                                          無任殘留物

                                                          RCA1#(鹼性)

                                                          氫氧化銨:過氧化氫:水=1:1:1.5

                                                          溶液槽

                                                          除去表面顆粒

                                                          RCA2#(鹼性)

                                                          氯化氫:過氧化氫:水=1:1:5

                                                          溶液槽

                                                          除去重金屬粒子

                                                          DI清洗

                                                          去離子水

                                                          溶液槽

                                                          除去清洗溶劑

                                                           

                                                          問題描述

                                                           

                                                          分產生廢水量大

                                                          廢水成複雜 ,含有各種過渡性質的金屬如硅、鍺等 ,同時含有較高含量的氟 ;

                                                          廢水中含有難以處理的較高濃度的 COD ;

                                                           

                                                          產品應用

                                                           

                                                          陶瓷膜過濾系統

                                                          佔地面積小 ,集中管理 ,智能控制 ;

                                                          產水質量高 ,同時去除廢水中的磷酸鹽和COD ;

                                                          耐化學酸鹼性佳 ,壽命長 ,維護簡便 ;

                                                          簡化傳統工藝 ,無需添加藥劑 ;

                                                           

                                                          此文關鍵詞: